塑料成型工藝中描述的拋光與（yǔ）其他行業所（suǒ）需的表麵拋光有很大不同，嚴格來（lái）說，模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不（bú）僅對拋光

本身有很高的要求，而且對表麵平整度、的平滑度和幾何（hé）精度也有很高的標準。表麵拋光通常僅需要光澤（zé）表麵。鏡像處（chù）理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控製（zhì）各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是必需的，精密模具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂紙實驗（yàn）室和煤油（yóu）協會。

　　2、精密拋光主要製作金剛石膏。通常的磨削（xuē），以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離（lí）開頭（tóu）發的痕跡，拋光布（bù）為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然（rán）後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石（shí）漿料進行拋光。要求精度為1微米或（huò）更（gèng）大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕對清潔的空間，用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮（pí）屑和唾液可能具有高（gāo）精度拋光表麵，可在工（gōng）作數小時後獲（huò）得。

　　3、為了獲得機（jī）械拋光的基本程序，高質量的（de）拋光效果，最重要的是要有高質量的拋光工（gōng）具和（hé）砂紙和（hé）研磨膏等配（pèi）件。最重要的是一個複雜的工（gōng）作環境，需要一個潔淨（jìng）室。拋光（guāng）程序的選擇取決（jué）於先前（qián）加（jiā）工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的（de）一般過程如下。粗拋（pāo）、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵（miàn）可以（yǐ）被選擇在35000-40000rpm的旋（xuán）轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋轉。常見的方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白（bái）色火花（huā）層。然後手（shǒu）動油石（shí）磨，金剛石

砂岩和煤油（yóu）條作為（wéi）潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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