塑（sù）料成型（xíng）工藝中描述的拋（pāo）光與其他行業所需的表麵拋光有很大不同（tóng），嚴格來說，模具的拋光應（yīng）稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光

本身有很高的要求，而且對表麵平（píng）整度、的平滑（huá）度和幾何精度也有很高的標準。表麵（miàn）拋光通（tōng）常僅需要光澤表麵。鏡像處理標（biāo）準

分為四個級別。

　　對於（yú）電解拋光、流體拋光的過（guò）程中，它是難以準確地控製各部（bù）分的幾何精度，由於化（huà）學（xué）拋光所述超聲波拋（pāo）光、磁性拋光的、表麵質量不是必需的，精（jīng）密模具主要是基於機械拋（pāo）光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂紙實驗（yàn）室和煤油（yóu）協會。

　　2、精密拋光主要製（zhì）作金剛石膏。通常的（de）磨削，以除去為（wéi）9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在（zài）殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕跡（jì），拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後（hòu）使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量（liàng）級的氈和金剛（gāng）石漿料進行拋光。要（yào）求精度（dù）為1微米或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是（shì）絕對清潔的空間，用於拋光模具。灰塵、煙霧（wù），頭皮屑和唾液可能具（jù）有高精度拋光表麵，可在工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機（jī）械拋光（guāng）的（de）基本程序，高質量的拋光效（xiào）果，最重要的是要有高質量的拋光工具和砂紙和研磨膏等配（pèi）件。最重要的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光（guāng）程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械（xiè）拋光的一般過程如下。粗拋（pāo）、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超（chāo）聲波粉碎機旋轉（zhuǎn）。常見的方法是使（shǐ）用直徑為3 mm、 WA＃400的輪（lún）子去除白色火花層。然後手動油石磨，金剛石

砂（shā）岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一（yī）般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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