塑料成型工藝中描述的拋光與（yǔ）其他行業所（suǒ）需的表麵拋光有很大不同（tóng），嚴格（gé）來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋（pāo）光。它不僅對拋光

本身有很高的要求，而且對表（biǎo）麵（miàn）平整度、的平（píng）滑（huá）度和（hé）幾何精度也有很高的標準。表麵拋（pāo）光通常僅需要光澤表麵（miàn）。鏡像處理（lǐ）標準

分為四個級別。

　　對於（yú）電解拋光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控（kòng）製各部分的幾何精度，由於化學拋（pāo）光（guāng）所（suǒ）述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵（miàn）質量不是必需的，精密（mì）模具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主要（yào）使（shǐ）用砂（shā）紙實驗室和煤油協會。

　　2、精密拋光主要製（zhì）作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離（lí）開頭發的痕（hén）跡，拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然（rán）後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量（liàng）級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是（shì）絕對清潔的空間，用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮屑和唾液可能具有高精度（dù）拋光表麵（miàn），可在工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的基本程序，高質（zhì）量的拋光效果，最重（chóng）要（yào）的是要有高質量的拋光工具和砂紙和研磨膏等配（pèi）件。最重要的是一個複雜的（de）工（gōng）作環境，需（xū）要一（yī）個潔淨室。拋光程（chéng）序的（de）選擇取決（jué）於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可以（yǐ）被（bèi）選擇（zé）在35000-40000rpm的旋（xuán）轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋轉。常見的方法是使用直（zhí）徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火（huǒ）花層。然後手動（dòng）油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序是（shì）＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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