塑料成型工藝中描述的拋光與其他行業（yè）所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋（pāo）光。它不僅對拋光

本身（shēn）有很高的要（yào）求，而且對表麵平整度、的平滑度和幾何精度也有很高的標準。表麵（miàn）拋光通常（cháng）僅需要光澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控（kòng）製各部（bù）分的幾何（hé）精度，由（yóu）於化學拋光（guāng）所述超聲波拋光、磁性拋（pāo）光的、表麵質量不是（shì）必需的，精密（mì）模具主要是基於機械拋（pāo）光（guāng）。 。

　　1、半精細拋光主要使（shǐ）用砂（shā）紙實驗室和煤油協會。

　　2、精密拋光主要製作金剛（gāng）石（shí）膏。通常的磨削，以除去（qù）為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕（hén）跡，拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後使用（yòng）1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或更大（包括1微米）的拋（pāo）光工藝

必須是絕對清潔的空間，用於拋（pāo）光模具。灰塵、煙霧，頭皮屑和唾液（yè）可能具（jù）有高精度拋光表麵，可在工（gōng）作數小時後獲得。

　　3、為了獲得（dé）機械拋光的基本程序，高質（zhì）量的拋光（guāng）效果，最重要的是要有高質量（liàng）的拋光工具和砂紙和研磨膏等配件。最重要的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光程（chéng）序（xù）的選擇取決於先前（qián）加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般（bān）過程如下。粗拋、銑削、電火花、的（de）處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的（de）旋（xuán）轉（zhuǎn）表麵研磨機或超聲波粉碎機（jī）旋轉。常見的方法是使用直（zhí）徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層。然後手（shǒu）動（dòng）油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作（zuò）為潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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