塑料成（chéng）型工藝（yì）中（zhōng）描述的拋光與（yǔ）其（qí）他行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光應稱（chēng）為鏡麵拋（pāo）光。它不僅（jǐn）對拋光

本身有很高的（de）要求，而且對表麵平整度、的平滑（huá）度和幾（jǐ）何精度也有很高的標準。表麵拋光通常僅需要光澤表（biǎo）麵。鏡像處理標準

分為四個（gè）級（jí）別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程中，它是難（nán）以準（zhǔn）確地控製各部分的幾（jǐ）何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁（cí）性拋（pāo）光的、表麵（miàn）質量不是必需的，精密模具主要是基（jī）於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主（zhǔ）要使用砂紙實驗室（shì）和（hé）煤油協會。

　　2、精密拋光主要製作金剛石（shí）膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在（zài）殼體＃1200和（hé）砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕跡（jì），拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後（hòu）使（shǐ）用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量（liàng）級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求（qiú）精度為1微（wēi）米或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕對清潔的空（kōng）間（jiān），用（yòng）於拋光模具（jù）。灰（huī）塵、煙霧，頭皮屑和（hé）唾液可（kě）能具有高精度拋光表麵，可在工作數小時後（hòu）獲得。

　　3、為了獲得（dé）機械拋光的基本程序，高質量的拋光效果，最重要的是要有高質（zhì）量的拋光工具和砂紙和研磨膏等配件。最重要的（de）是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室（shì）。拋光程（chéng）序的選擇取決於先前加工的（de）表麵狀況（kuàng），例如（rú）、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程（chéng）如下。粗拋、銑削、電（diàn）火花、的處理之後磨削表（biǎo）麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎（suì）機旋轉。常見（jiàn）的方（fāng）法是使用直徑（jìng）為3 mm、 WA＃400的輪（lún）子去除白（bái）色（sè）火花層。然後手動油石磨，金剛石（shí）

砂岩和煤（méi）油條作為潤滑（huá）劑或冷卻劑。一般使用順（shùn）序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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