隨著塑料製品日溢廣泛的應用，如日化用品和（hé）飲（yǐn）料包裝容器等，外觀的需要往往要求塑料（liào）模具型腔的表麵達到（dào）鏡（jìng）麵拋（pāo）光的程度。而生產光學鏡片（piàn）、鐳射唱（chàng）片等模（mó）具對表麵粗糙度要求極高（gāo），因而對拋光性的要（yào）求也（yě）極高。

拋光不僅增加（jiā）工件的美觀（guān），而且能夠改善材料表麵的耐腐蝕性、耐磨性，還可以使模具擁（yōng）有其它優點，如使塑（sù）料（liào）製品易於脫模，減少生產注塑周期等。因而拋光（guāng）在塑（sù）料模具製作過程（chéng）中是很重要的一道工序。

目前常（cháng）用的拋光方法（fǎ）有以下幾種：

1.1 機械（xiè）拋（pāo）光

機械拋光是*切削、材料表麵塑性（xìng）變形去掉（diào）被拋光後的凸部（bù）而得（dé）到平（píng）滑麵的拋光方法，一（yī）般使用油（yóu）石條、羊毛輪、砂（shā）紙等（děng），以手（shǒu）工操（cāo）作為主，特殊零件如回轉體表麵，可使用轉台（tái）等（děng）輔助工具，表麵（miàn）質（zhì）量 要求高的可采用超精研拋的方法。

超精研（yán）拋是采用特製的磨具，在含有磨料（liào）的研拋液中，緊壓在工件被加工（gōng）表麵上，作高速旋轉運動。利用該技術可以（yǐ）達到Ra0.008μm的表麵（miàn）粗糙度，是各種拋光方法中最高的（de）。光學鏡片模具（jù）常采用這（zhè）種方法。

1.2 化（huà）學拋光

化學拋（pāo）光是讓材料在化學介質中表麵（miàn）微觀凸出的部分較凹部分（fèn）優先溶解，從而得到平滑麵。這種（zhǒng）方法的主要優點是不需複雜設備，可以拋光形（xíng）狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效（xiào）率高。化學拋光的核心問（wèn）題是拋光液的配製。化學拋光得（dé）到的表麵粗糙度一般為數10μm。

1.3 電解拋光

電解拋光基本原（yuán）理與化學拋光（guāng）相同，即*選擇性的溶解材料表麵微小凸出部分，使表麵光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的（de）影響，效果較好。電化學拋光過程分為兩步：

（1）宏觀整平 溶解產物向（xiàng）電解液中擴散，材料表麵幾何粗糙下降，Ra＞1μm。

（2）微光平整（zhěng） 陽（yáng）極極化，表麵光亮度提高，Ra＜1μm。

1.4 超聲波拋（pāo）光

將工件放入磨料懸浮液中並一起（qǐ）置於超聲波場中，依*超聲波的振（zhèn）蕩作用，使磨料在工件（jiàn）表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀（guān）力小，不會（huì）引起工件變形，但工裝製（zhì）作和安裝較困（kùn）難。超（chāo）聲波加工可（kě）以與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上，再施加超聲波振動攪拌溶液，使工件表（biǎo）麵溶解產物脫離，表麵附近（jìn）的腐蝕或電解質均勻；超聲波在液體（tǐ）中的空化作用還能夠抑製腐蝕過程，利於表麵光亮化（huà）

1.5 流體拋光

流體拋光是依*高速流動的（de）液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有（yǒu）：磨料噴射（shè）加工、液體（tǐ）噴（pēn）射加工、流體動力研磨等（děng）。流體動力研磨（mó）是由（yóu）液壓驅動，使攜帶磨粒（lì）的液體（tǐ）介質高速往複流過工件表麵。介質主要采用（yòng）在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質）並摻上磨料製成，磨料可采用碳化矽粉末。

1.6 磁研（yán）磨拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率（lǜ）高，質量好，加工條件容易控（kòng）製，工（gōng）作條件（jiàn）好。采用合適的（de）磨料，表麵粗糙度可以達（dá）到Ra0.1μm。

在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中（zhōng）所要求的表（biǎo）麵拋光有很大的不同，嚴格來說，模具的拋光應該稱為鏡麵加工（gōng）。它（tā）不（bú）僅對拋光本身有很高的要求並且對（duì）表麵平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標準。表麵拋光一般隻要求獲得光亮的表麵即可。

鏡麵加工的標準分為四級（jí）：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由（yóu）於電解拋光、流體拋光等方法（fǎ）很難精確控（kòng）製零件的幾何精確度（dù），而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法（fǎ）的表麵質量又達不到要求，所以精密模具的鏡麵（miàn）加工還是以機械拋光為主。

機械拋光基本程（chéng）序

要想獲得高（gāo）質量（liàng）的拋光效果，最重要的是要具備有高質量的油石、砂紙和鑽（zuàn）石研磨膏（gāo）等拋光工具和輔助品。而（ér）拋光程序的選（xuǎn）擇取決於（yú）前期加工後的（de）表麵狀況，如機械加工、電火花加工，磨加工等等。機械拋光的一般過程如下：

1、粗拋

經銑、電火花、磨等工藝後的表麵可以（yǐ）選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋（xuán）轉表麵拋光（guāng）機或超聲波研磨機進（jìn）行（háng）拋光（guāng）。常用的（de）方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火花層。然（rán）後是手（shǒu）工油石研磨，條狀油石加煤油作為潤滑劑或（huò）冷卻劑。一般（bān）的使用（yòng）順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許（xǔ）多模具製造商為了節約時間而選擇從#400開（kāi）始（shǐ）。

2、半精拋

半精（jīng）拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號（hào）數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙隻用適於淬硬的模具鋼（52HRC以（yǐ）上），而不適用於預硬鋼，因為這樣（yàng）可能會導致預硬鋼件表麵燒（shāo）傷。

3、精拋

精拋主（zhǔ）要使用鑽（zuàn）石（shí）研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉（fěn）或（huò）研磨膏進行研磨的話，則通常的研磨順（shùn）序是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研磨膏（gāo）和拋光（guāng）布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下的發（fā）狀磨痕。接著用粘氈和鑽石研磨膏進行拋光，順序為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要求在1μm以（yǐ）上（包括1μm）的拋光（guāng）工藝在模具加工車間中一個清潔的拋光室內（nèi）即可進行。若進行更加精密的拋光則必需一（yī）個絕對潔（jié）淨的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑（xiè）和口水沫都（dōu）有可能報廢（fèi）數個小時工（gōng）作後得到（dào）的高精密拋（pāo）光表麵。

機械拋光中要注意的（de）問題

用砂紙拋光應注意以下幾點：

1、用砂紙拋光需要利用軟（ruǎn）的木棒或（huò）竹棒。在拋光圓（yuán）麵或球（qiú）麵時，使用軟木棒可更好的配合圓麵和球麵的弧度。而較硬的木條像櫻桃木，則更適用於平整表麵的拋光。修整木條的末端使其能與鋼件表麵形狀保持吻合，這樣可以避免木條（或竹條）的（de）銳角接（jiē）觸鋼件表（biǎo）麵而造成較深的（de）劃（huá）痕。

2、當（dāng）換用不同型號的砂紙時，拋光方向應變換45°~ 90°，這樣前一種型（xíng）號砂紙拋光（guāng）後留下的條紋陰影即可分辨出來。在換不同型號砂（shā）紙之前，必須用（yòng）100％純棉花沾取酒精（jīng）之類的清潔液對拋光表麵進行仔細的擦拭，因為一顆（kē）很小的沙礫留在表麵（miàn）都會毀壞接下（xià）去的整個拋光工作（zuò）。從砂紙拋光換成鑽石研磨膏拋光時（shí），這個清潔過程同樣重要。在拋光繼續進行之前，所（suǒ）有顆粒和煤油都必須（xū）被完全清潔（jié）幹淨。

3、為了避（bì）免擦傷和燒傷工件表麵，在用#1200和#1500砂紙進（jìn）行（háng）拋（pāo）光時必須特別小心。因而有（yǒu）必要加載一（yī）個輕載荷以（yǐ）及采用兩步拋光法對表麵進行拋光。用每一種型號的砂（shā）紙進行拋光時都應（yīng）沿兩（liǎng）個不同方向進行兩次拋光（guāng），兩個方向之間每次轉動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光應注意以下幾點：

1、這種（zhǒng）拋光必須盡量在較（jiào）輕的壓力下（xià）進行特別（bié）是拋光預硬鋼件和用細研磨膏拋光時（shí）。在用#8000研磨膏拋光時，常用載荷為100~200g/cm2，但要保持此載荷的精準（zhǔn）度很難做到。

為了更容易做到這一點，可（kě）以在木（mù）條上（shàng）做一個薄且窄的手柄，比如加一銅片（piàn）；或者在竹條上切去一部（bù）分而使其更加柔軟。這樣可（kě）以幫（bāng）助控製拋（pāo）光壓力，以確保模具表麵壓力不會過高。

2、當使用鑽（zuàn）石研磨拋光時，不僅是工作表麵要求潔淨，工作者的雙手也必（bì）須仔細清潔。

3、每次拋光時間不應過長，時間越短（duǎn），效果越（yuè）好。如果拋（pāo）光過程進行得過長將會造成“橘皮”和（hé）“點蝕”。

4、為獲得高質量的拋光效（xiào）果，容易發熱的拋光方法和工具（jù）都應避免。比如：拋光輪拋光，拋光（guāng）輪產生的熱量會很容易造成“橘（jú）皮”。

5、當拋光過（guò）程停止時（shí），保證工件表麵潔淨（jìng）和（hé）仔細去除所有研磨劑和潤（rùn）滑劑非常（cháng）重要，隨後應在表麵噴淋一層模（mó）具防鏽塗層。

由於機械拋光主要還是*人工完成（chéng），所以拋光技術目前（qián）還是影響拋（pāo）光質量的主要原因。除此之外，還與模具材料、拋（pāo）光前（qián）的表麵（miàn）狀況、熱處理工藝等有關。優（yōu）質的鋼材是獲得良（liáng）好拋（pāo）光質量的前提條件，如果鋼（gāng）材表麵硬度不均（jun1）或特性上有差異（yì），往往會產生拋（pāo）光困難。鋼（gāng）材中的（de）各種夾雜物和氣孔都不利於拋光。

不同硬度對拋光工藝的影響

硬度增高（gāo）使研磨的困難（nán）增大，但拋（pāo）光後的粗糙度減（jiǎn）小。由於硬度（dù）的增高（gāo），要達到較低的粗糙度所需的拋光時間相應增長。同時硬度增高，拋（pāo）光過度的可能性相應減少。

工件表麵狀況對拋光工藝的影響

鋼材在切削機械加工的破碎（suì）過程中，表層會因熱量、內應力或其他因素而損（sǔn）壞，切削參（cān）數不當會影響拋光效果。電火花加工後的表麵比普通機械加工或熱處理後的表麵更難（nán）研磨，因此電火花加工結束（shù）前應（yīng）采（cǎi）用（yòng）精規準（zhǔn）電火花（huā）修整，否（fǒu）則表麵會形（xíng）成硬化薄層。

如果電火花精（jīng）修規準選擇（zé）不當，熱影（yǐng）響層的深度最大（dà）可達（dá）0.4mm。硬化薄層的硬度比基（jī）體硬度高，必須去除。因此最好增（zēng）加一道粗磨加工，徹底清除損壞（huài）表麵層，構成一片平均粗糙的金屬麵，為拋光加工提供一個（gè）良好基礎。

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