隨（suí）著塑料製品日（rì）溢廣泛的應用（yòng），如日化用品和飲料包裝容器等，外（wài）觀的需要往往要求塑料模具型腔的表麵達到鏡麵拋光（guāng）的程度。而生產（chǎn）光學鏡片、鐳射唱片等模具對表麵粗（cū）糙度要求極高，因而對拋光性的要求也極高。

拋光不僅增加工件的（de）美觀，而且能夠改善材料（liào）表麵的耐腐蝕性、耐磨性（xìng），還（hái）可以（yǐ）使模具擁有其它（tā）優（yōu）點，如使塑料製品易於脫模，減少生產注塑周期等（děng）。因而拋光在塑料模具（jù）製作過程中是很重要的（de）一道工序。

目前（qián）常用的拋（pāo）光方（fāng）法有以下幾種：

1.1 機械拋光

機械拋光是*切削、材料表麵塑性變形（xíng）去掉被拋光後（hòu）的凸部而得到平滑麵的拋光方法，一般使用油石條、羊（yáng）毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表麵，可使用轉台等輔助工具，表（biǎo）麵質量 要求高的可采用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特製的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表麵上，作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度（dù），是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。

1.2 化學拋（pāo）光

化學拋光是讓材料（liào）在化學介質（zhì）中表麵（miàn）微觀凸出的部分較凹（āo）部分優先溶解，從（cóng）而得到平滑麵。這種方（fāng）法的主要優點是不需複雜設備（bèi），可以拋光形狀複（fù）雜的工件（jiàn），可（kě）以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問（wèn）題（tí）是拋光液的配製。化（huà）學拋光得到的（de）表麵粗糙度一般為數（shù）10μm。

1.3 電解拋光（guāng）

電解拋光基本原理與化學（xué）拋光相同，即*選擇性的溶解材料表麵微小凸出部分，使表麵光滑。與化（huà）學拋光相比，可以消除陰極反（fǎn）應的影響，效果較好。電化（huà）學拋光過程分為兩步：

（1）宏觀整平 溶解產（chǎn）物向電解液中擴散，材料表麵幾何粗（cū）糙下降，Ra＞1μm。

（2）微（wēi）光平整 陽極極化，表麵光亮度提高，Ra＜1μm。

1.4 超聲波拋光

將工件放入磨料懸浮液中並一起（qǐ）置於（yú）超聲波場中，依*超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力（lì）小，不會引起工件變形，但工裝製作和（hé）安裝較困難。超聲波（bō）加工可以與化（huà）學或電化學（xué）方法（fǎ）結合（hé）。在溶液腐蝕（shí）、電（diàn）解的基礎上，再施加超聲波振動攪（jiǎo）拌溶液，使工（gōng）件表麵溶解產物脫離，表麵附近的腐蝕或電解質均勻（yún）；超聲波在液體中的空化作用還能（néng）夠（gòu）抑製腐蝕過程，利於表麵光亮化

1.5 流體拋（pāo）光

流體拋光是依*高速流動的液體及其攜帶的磨（mó）粒衝刷工件表麵達到拋光的目的（de）。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴（pēn）射加（jiā）工、流體動力研（yán）磨等。流體（tǐ）動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體介質（zhì）高速往複流過工件表麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（wù）（聚合物狀物質）並摻上磨（mó）料製成，磨料可采用碳化矽粉末（mò）。

1.6 磁研磨拋（pāo）光

磁研磨拋光是利用磁（cí）性磨料在磁場作用下形成磨料（liào）刷，對工件磨削加工。這種方法加工（gōng）效率高，質量好，加工條件容易控製，工作條件好。采用合適的磨料，表麵粗糙度可（kě）以達到Ra0.1μm。

在塑料模具加工中所說（shuō）的拋光與其他行業中所要求的表麵拋光有很大的不同，嚴格（gé）來說，模具的拋（pāo）光應該稱為鏡麵加工。它不僅（jǐn）對拋光本身有很高的要求（qiú）並且對表麵平整度、光（guāng）滑度以及幾何精確度（dù）也有很高的標準。表麵拋光一（yī）般隻要求獲得光亮的（de）表麵（miàn）即（jí）可。

鏡麵加工的標準分為四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光、流（liú）體拋光等方法很難（nán）精確控製零件的幾何精確度，而化（huà）學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表麵質量又達不到要求，所以精密模具的鏡麵（miàn）加工還是以（yǐ）機械拋光為主。

機械拋光基本程序

要想獲得（dé）高質量的拋（pāo）光效果，最重要的是要具備（bèi）有高質量的油石、砂紙和鑽（zuàn）石研磨膏等拋光工具和輔助品（pǐn）。而拋光程序的選擇取決於前期加工後（hòu）的表麵狀況，如機械加工、電火花加工，磨加工等（děng）等。機械拋光的一般過程（chéng）如下：

1、粗拋

經銑、電火花、磨等工藝後的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表麵拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火花層。然後是手工油石研磨，條（tiáo）狀油石加（jiā）煤油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造（zào）商為了節約時間而選擇從#400開始。

2、半精拋

半精拋主要使用砂（shā）紙和煤油。砂紙的（de）號數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實（shí）際上#1500砂紙隻（zhī）用適於淬（cuì）硬的模具鋼（52HRC以上），而不適用（yòng）於預硬鋼，因為這樣可能會導致預硬鋼件表麵燒傷。

3、精拋

精拋主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布（bù）輪混合鑽石研磨粉或（huò）研磨（mó）膏進行研（yán）磨的話，則（zé）通常的研磨順序是（shì）9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研（yán）磨膏和拋光布輪可用來去除（chú）#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接（jiē）著用粘氈（zhān）和鑽石研磨膏進行拋光，順序（xù）為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要求在1μm以上（包括1μm）的拋光工藝在模具（jù）加（jiā）工車間（jiān）中一個清潔的拋光室（shì）內即可進行。若進行更（gèng）加精密的拋光則必需（xū）一個絕對潔淨的空（kōng）間。灰塵、煙（yān）霧（wù），頭皮屑和口水沫都有（yǒu）可能報廢（fèi）數個小時（shí）工作後得到的高精密（mì）拋（pāo）光表麵。

機械（xiè）拋光中要注意的問題

用砂紙拋光應注意（yì）以下（xià）幾點：

1、用砂（shā）紙拋光需要（yào）利用軟（ruǎn）的木棒或竹棒。在拋光圓麵或球麵時，使用軟木棒可更（gèng）好的配合圓麵和球麵（miàn）的弧度。而較硬的木條像（xiàng）櫻桃木，則更適用於平整表麵的拋光。修整木條的末端（duān）使其能與鋼件表麵形狀保持吻合（hé），這樣可以避免（miǎn）木條（或竹條）的銳角接觸鋼件表麵（miàn）而造成較（jiào）深的（de）劃（huá）痕。

2、當換用（yòng）不（bú）同型號的砂紙時，拋光方向應變換45°~ 90°，這樣（yàng）前一種型號砂紙拋光後留下的條紋陰影即可（kě）分辨出來。在換（huàn）不同（tóng）型號砂紙之前，必須用100％純棉花沾取酒精之類的清潔液（yè）對拋光表麵進行仔細的擦拭（shì），因為一顆很小的沙礫留在表麵都會毀壞接下去（qù）的整個拋光工作。從砂紙拋（pāo）光換成鑽石研（yán）磨膏拋光時，這個清潔過程同樣重要。在拋光繼（jì）續進行之前，所有顆粒和煤油都必須（xū）被完全清潔幹淨。

3、為了避免擦傷和燒傷工（gōng）件表麵，在用#1200和#1500砂紙進行拋（pāo）光時（shí）必須特別小心。因而有必要加載一個輕載荷以及采用兩步拋光法對表麵進行拋光。用每一種型號的砂紙進行（háng）拋光時都應沿兩個（gè）不同方向（xiàng）進行兩次拋光，兩個方向之間每次轉（zhuǎn）動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光應注（zhù）意以下幾點：

1、這（zhè）種拋（pāo）光必須盡量在（zài）較輕的壓力下進行特別是拋光預硬（yìng）鋼件和（hé）用細研磨膏拋光時。在用#8000研磨膏（gāo）拋光時，常用載荷為100~200g/cm2，但要保持此載荷的精準（zhǔn）度很難做（zuò）到。

為了更容易做到這一點，可以在木條上做一個薄（báo）且窄的手柄，比如加一銅片；或者在竹條上切去（qù）一部（bù）分而使其更加柔軟。這樣可以幫助控製拋光壓力，以確保模具表麵壓力不（bú）會過高。

2、當使用鑽石研磨拋光時，不僅是工作表麵（miàn）要求潔淨，工作者的雙手也必須仔細清潔。

3、每次拋光時間不應過長，時間越短（duǎn），效果越好。如果拋光過程進行（háng）得過長將會造成（chéng）“橘皮”和“點蝕”。

4、為獲得高（gāo）質量的拋光效果，容易發熱的拋光方法和工具都應避（bì）免。比如：拋光輪拋光，拋光輪產生的熱量（liàng）會（huì）很容易造成（chéng）“橘（jú）皮”。

5、當拋光過程停止時，保證（zhèng）工（gōng）件表麵（miàn）潔淨和仔細去除所（suǒ）有研磨劑和潤滑劑非常重要，隨後應在表麵噴淋一層（céng）模具防鏽塗層。

由於機械拋光主要還是*人工完成，所以拋光技術（shù）目前還是影響拋光質量的主（zhǔ）要原因。除此之外（wài），還與模具材料、拋光（guāng）前的表麵狀況、熱處理工藝等有關。優質的鋼材是獲得良好拋光質量的前提條件，如果鋼材表麵硬度不均或（huò）特性上有差異，往往會產生拋光困（kùn）難（nán）。鋼材中的各種夾雜（zá）物和氣孔都不利於拋光。

不同硬度對（duì）拋光工藝的影響

硬度增高使研磨的困（kùn）難增大，但拋光後的粗（cū）糙度減小。由於（yú）硬度的（de）增高（gāo），要達到較（jiào）低的粗糙度（dù）所（suǒ）需的拋光時間相應增長（zhǎng）。同時硬度增高（gāo），拋光過（guò）度（dù）的可能性相應減少。

工（gōng）件表麵狀況對（duì）拋光工藝（yì）的影響

鋼材在切削機械加工的破碎過（guò）程中，表層（céng）會因熱量（liàng）、內應力或其他因素而損壞（huài），切（qiē）削參數不當會影響（xiǎng）拋光效果。電火花加工後（hòu）的（de）表（biǎo）麵（miàn）比普通機械加工或熱處理後的表麵更難研磨（mó），因此（cǐ）電火花（huā）加工結束前應采用精（jīng）規準電火花修整，否則表麵會形成硬化（huà）薄層（céng）。

如果電火（huǒ）花精修規準選（xuǎn）擇不當，熱影響層的深度最大可達0.4mm。硬（yìng）化薄層的硬度比基體硬度高，必須去除。因此最好增（zēng）加一（yī）道粗（cū）磨加工，徹底清除損壞表麵層，構成一片平均粗糙的金屬麵（miàn），為拋光加工（gōng）提供一個良好基礎。

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