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深圳模具(jù)廠家,模具零配件(jiàn)生產廠家常用研磨拋光方法

文章來源: 免费91(xiáng)模具 人氣:9188 發(fā)表(biǎo)時間:2019-02-23 09:55:32

[導讀]:機械拋光是靠切削、材料表麵塑性變(biàn)形去掉被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法,一般(bān)使用油石(shí)條、羊毛輪(lún)、砂紙等,以手工操作為主,特殊零(líng)件(jiàn)如回轉體表麵,可使用轉台等輔助(zhù)工具

機械拋光

機械拋光是靠切削(xuē)、材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法,一般使用油石條(tiáo)、羊毛輪、砂紙等(děng),以手工操作為主,特殊零件如回轉體表麵,可使用轉台等(děng)輔助工具,表麵質量要求高的可采用超精(jīng)研(yán)拋的方法。超精研拋是采用特製的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓(yā)在工件被加工表(biǎo)麵上(shàng),作高速(sù)旋轉運動。利用該技術可(kě)以達到(dào) Ra0.008 μ m 的表麵粗糙度(dù),是各種拋光方法中最高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。

化學拋光

化學拋光是讓材料在化(huà)學介質中表麵微觀(guān)凸出的部分較(jiào)凹部分優先溶解,從(cóng)而得到平滑麵。這種方法的主要(yào)優點是不(bú)需複(fù)雜(zá)設備,可以拋光形狀(zhuàng)複(fù)雜的工件,可以同時拋(pāo)光很多工件,效率高。化(huà)學拋光的核心(xīn)問題是拋光液的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數 10 μ m 。

電解拋光

電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相(xiàng)同,即靠選擇性的溶解材料表麵微小凸(tū)出部分,使表麵光滑。與化學拋光相比(bǐ),可以消(xiāo)除(chú)陰極反應的影響(xiǎng),效果較好。電化學拋光過程(chéng)分為(wéi)兩步:

1、宏觀(guān)整平溶解產物向電解液中擴(kuò)散,材料表麵幾何(hé)粗糙下降, Ra > 1 μ m 。

2、微光平整陽極極化,表麵光亮度提高, Ra < 1 μ m 。

超聲波拋光

將工件放入磨料懸浮液中並一起置於超聲波場中(zhōng),依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波(bō)加(jiā)工宏觀(guān)力小(xiǎo),不會引起工件變形,但工裝製作和(hé)安(ān)裝較困難。超聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上(shàng),再施加超聲(shēng)波振(zhèn)動攪拌溶液(yè),使工(gōng)件表麵溶解產物脫離,表麵附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中(zhōng)的空化作用還能夠抑製腐蝕過(guò)程,利於表麵光亮(liàng)化。

流體拋光

流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液(yè)體及其攜帶的磨粒(lì)衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用(yòng)方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動,使攜(xié)帶磨粒的(de)液體(tǐ)介質高速往複流過工件表麵。介質主要采用在較低(dī)壓力下流過性好的特殊化(huà)合物(聚合物狀物質)並摻上磨料製成,磨料可采用碳化矽粉末。

磁研磨拋光

磁研磨拋光是利(lì)用磁性磨料(liào)在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方(fāng)法加工效率高,質量好,加工條(tiáo)件容(róng)易控製,工(gōng)作條件好。采用合適(shì)的磨料,表麵粗糙度可以達到 Ra0.1 μ m 。

在塑料(liào)模具加(jiā)工中所說的(de)拋光與(yǔ)其他行業(yè)中所要求的表麵(miàn)拋光有很大的不(bú)同,嚴格來說,模具的拋光應該稱(chēng)為鏡麵加工。它不僅對(duì)拋光本身有很高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及(jí)幾何精確度也有很高的標準(zhǔn)。表麵(miàn)拋光(guāng)一般隻要求獲得光亮的表麵即可。模具大(dà)師微信:1828765339 鏡麵加工的標準分為四級: AO=Ra0.008 μ m , A1=Ra0.016 μ m , A3=Ra0.032 μ m , A4=Ra0.063 μ m ,由於電解拋光、流(liú)體(tǐ)拋光(guāng)等方法很難精確控製零件的幾何精確度,而化學拋光、超聲波拋(pāo)光、磁研磨拋光等方法的(de)表麵質量又達不到要求,所以精密模具的鏡麵加工還是以機械拋光(guāng)為主。

機械(xiè)拋光基本程序

要想獲得高質量的拋光(guāng)效果,最重要的是要具備有高質量的油石、砂紙和鑽(zuàn)石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋光程序的選擇取決於前期(qī)加工後的表麵狀況(kuàng),如機械加工、電火花加工,磨加工等等。機械拋光的一般(bān)過程如下:

1、粗拋

經銑、電火花、磨等工藝後的表麵可以選擇轉速在 35 000 — 40 000 rpm 的旋轉表麵拋光機(jī)或超聲波研磨機進行拋光。常用(yòng)的方法(fǎ)有利用(yòng)直徑Φ 3mm 、 WA # 400 的輪子去除白色電火花層。然(rán)後是手工油石研磨,條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為 #180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 。許多(duō)模具製造商為了節(jiē)約時間而選擇從 #400 開始。

2、半精拋

半精(jīng)拋主要使用(yòng)砂紙和煤油。砂紙的號數依次為: #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500 。實際上(shàng) #1500 砂紙隻用適於淬硬的模具鋼(gāng)(52HRC 以上),而不適用於預(yù)硬鋼,因為這樣可能會導致預硬鋼件(jiàn)表麵燒傷。

3、精拋

精拋主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉或研磨膏(gāo)進行研磨的話,則通常的研磨順序是 9 μ m (#1800 ) ~ 6 μ m (#3000 ) ~3 μ m (#8000 )。 9 μ m 的(de)鑽石研磨膏和拋光布輪可用來去除 #1200 和(hé) #1500 號(hào)砂紙(zhǐ)留下的發狀磨痕。接著(zhe)用粘氈和鑽石研磨膏進行拋光,順序為 1 μ m (#14000 ) ~ 1/2 μ m (#60000 ) ~1/4 μ m (#100000 )。

精度要求在 1 μ m 以上(包括 1 μ m )的拋光工藝在模具加(jiā)工車間中一個清潔(jié)的(de)拋光室內(nèi)即可進行。若進行更加(jiā)精密的拋光則必需一個絕對潔淨的空間。灰塵、煙(yān)霧,頭皮(pí)屑和口水沫都有可能報廢(fèi)數個(gè)小時工作後得到的(de)高精密拋光表麵。

機械拋光(guāng)中要注意的問題

用砂紙拋光應注意以下幾點:

1、用砂紙拋光需要利用軟的木棒或竹棒。在拋光圓麵或球麵時,使(shǐ)用(yòng)軟(ruǎn)木(mù)棒(bàng)可更好的配合圓麵和球麵的弧(hú)度。而較硬的木條像櫻桃木,則更適用於平整表麵的(de)拋光。修整木條的末端使其能與鋼件表麵形(xíng)狀保持吻合,這樣可以避免木(mù)條(或竹條)的銳角接觸鋼件表麵而造成較深的劃痕(hén)。

2、當換用不同型號的砂紙時(shí),拋光方向應變換(huàn) 45 ° ~ 90 °,這樣前一種型號砂紙(zhǐ)拋光後留下的條(tiáo)紋(wén)陰影即可分辨出來。在換不同型號(hào)砂紙之前,必須用 100 %純棉花沾取(qǔ)酒(jiǔ)精之類的清潔液對拋光表(biǎo)麵(miàn)進行仔細的擦拭,因為一顆很小的沙礫留在表麵都會毀壞接下去的整個拋光工作。從(cóng)砂紙拋光換成(chéng)鑽石研磨膏拋光時,這個清潔過程同樣重要。在拋光繼續進行之前,所有顆(kē)粒和煤油都必須被完全清潔幹淨。

3、為了避免擦傷和燒傷工件表麵(miàn),在用 #1200 和 #1500 砂紙進行拋光時必須特別小(xiǎo)心。因而有必要加載一個輕載荷以及采(cǎi)用兩步(bù)拋光法對表麵進行拋光。用每一種型號(hào)的砂紙進行拋光時都應沿兩個不同方向進行兩次拋光,兩個方向之間每次轉動 45 ° ~ 90 °。

鑽石研磨拋光應注意以下幾點:

1、這種拋(pāo)光必須(xū)盡量在(zài)較輕的壓力下進行特別是拋光預硬(yìng)鋼件和用細研磨膏拋光時。在用 #8000 研磨膏拋光時,常(cháng)用載荷為 100~200g/cm2 ,但要保持此載荷的精準度很(hěn)難做到。為了更容易做到這一點,可以在木條上(shàng)做一個薄且窄的(de)手柄,比如加(jiā)一銅片;或者在(zài)竹條上切去一部分而使其更加柔軟。這(zhè)樣可(kě)以幫助控製拋光壓力,以確保(bǎo)模具(jù)表麵壓力不會過(guò)高。

2、當使用鑽石研磨拋光時,不僅是工作表(biǎo)麵要求潔淨,工作者的雙手也必須仔細清潔。

3、每次(cì)拋光時間不應過長,時間(jiān)越短,效果越好。如果拋光過程進行得過長將(jiāng)會造成“橘(jú)皮”和(hé)“點蝕”。

4、為獲得高質量的拋光效果,容易發熱的拋光方法和工(gōng)具都應避免。比如:拋光輪拋(pāo)光,拋光輪(lún)產生的(de)熱量會(huì)很容(róng)易造(zào)成“橘皮”。

5、當拋光過程停止時,保證工件(jiàn)表麵潔淨和仔細去除所有研磨劑和潤滑劑非常重要,隨後應在表麵噴淋一層模具防鏽(xiù)塗層。

由於機(jī)械拋光主要還是靠人工完成,所以拋光技術目前還是影響拋光質量的主要原(yuán)因。除此之外,還與模具材料、拋光前的表麵狀況、熱處理工(gōng)藝等有關。優質的(de)鋼材是獲(huò)得良好拋光質量的(de)前提條件,如果鋼材(cái)表麵硬度不均或特性上有差異,往(wǎng)往(wǎng)會產生拋(pāo)光困難。鋼材中的各種夾雜物和氣孔都不利於拋光。

不(bú)同硬度對拋光工藝的影響

硬度增高使(shǐ)研磨的困難增(zēng)大,但拋光後的粗(cū)糙度減小。由於硬度的增高,要達到較低的(de)粗糙度所需的拋光時間相應增(zēng)長。同時(shí)硬度增高,拋光過度(dù)的可能性相應減少。

工件表麵狀況對拋光工藝的影響

鋼材(cái)在(zài)切(qiē)削機(jī)械加(jiā)工(gōng)的破碎過程中,表層會因熱量、內應力或其他因素而損壞,切削參數不當會影響拋光效果。電火花加工後的表麵比普通機械加工或熱處理後的表麵更難研磨,因此電火花加工結束前應采用精規準電火花修整,否則表麵會形成硬化薄層。如(rú)果電火花精修規準選擇不當,熱影響(xiǎng)層的深度(dù)最大可達 0.4mm 。硬化薄層的硬度比(bǐ)基體硬度(dù)高,必須去除。因此最好增加(jiā)一道(dào)粗磨加工,徹(chè)底清除損壞表麵層,構成一片平均粗糙的金屬麵,為拋光加工提(tí)供一個良好基礎。


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