對模具進行拋光的目的主要有兩個（gè）：

一、是（shì）增加塑（sù）料模具光亮度、美觀（guān）度；

二、是使模具更容易脫模。

在進行拋光時，一（yī）般（bān）先（xiān）使（shǐ）用（yòng）粗的油石對機械加工的模具型腔表麵進行粗的打磨，打磨去（qù）機（jī）加刀（dāo）具的刀痕，然後再使用細的油石打（dǎ）磨去粗油石打的痕（hén）跡，然後（hòu）再用（yòng）細的砂紙對（duì）細（xì）油石打磨過的表麵（miàn）再（zài）進行打磨，最後再使用拋光膏或研磨膏對模具的（de）型腔表麵進行（háng）最後的精拋光打（dǎ）磨，最後達到光亮如鏡的效果。

日常生活中，我們常見的塑料模具拋光（guāng）方式有六種：

1.機械拋光

機械拋光是靠切削、材料表麵塑性變形去掉被拋光後（hòu）的凸部而得到平滑麵的拋光方法，一般使用油石（shí）條、羊毛輪、砂紙等，以手（shǒu）工操作為主，特殊零件如（rú）回轉體表麵，可使用轉（zhuǎn）台等輔助工具，表麵質量要求高的可采用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特（tè）製的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表麵（miàn）上，作高速（sù）旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常（cháng）采用這種方（fāng）法。

2.化學拋光

化學拋（pāo）光是讓材料在化學介質中表麵（miàn）微觀（guān）凸出的部分較凹（āo）部分優（yōu）先溶解，從而得到平滑麵。這種方法的主要優（yōu）點是不需複雜設備，可以拋光形狀（zhuàng）複（fù）雜的工件，可以（yǐ）同時拋光很（hěn）多工件，效（xiào）率高。化學拋光的核心問題（tí）是拋光（guāng）液的配製。化學拋光得（dé）到的（de）表（biǎo）麵（miàn）粗糙度一般為數10μm。

3.電解（jiě）拋光

電解拋（pāo）光基本與化學拋光相（xiàng）同，即靠選擇性地（dì）溶解材料表（biǎo）麵微小凸出部分，使表麵光滑。與化學拋光相比（bǐ），可以消除陰極反應的影響，效（xiào）果較好。電化學拋光過程（chéng）分為兩步：

（1）宏觀平整。溶解產物向電解液中擴散，材料表麵幾何粗糙（cāo）度下降，Ra>1μm；

（2）微光（guāng）平整。陽極極化，表麵光亮度提高，Ra<1μm。

4.超聲波拋光

將工（gōng）件放入磨料懸浮液中，並一起置於超聲波場中，依靠超聲波的振動作用，使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工（gōng）宏（hóng）觀力（lì）小，不會引起工件變形，但工裝製作和安裝較困難。

超聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶（róng）液腐蝕、電解的基礎上（shàng），再施（shī）加超（chāo）聲波振（zhèn）動攪拌溶液，使工件表麵溶解產（chǎn）物脫離，表麵附近的腐蝕或電解（jiě）質均勻；超聲波在液體中的空化（huà）作用還能夠抑（yì）製腐（fǔ）蝕過程，利於表麵光亮化。

5.流體拋光

流體拋光，是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷（shuā）工件（jiàn）表麵達（dá）到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。

流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨（mó）粒的液體介質高速往（wǎng）複流過工件表麵。介質（zhì）主要采用在（zài）較（jiào）低壓力下流過性好（hǎo）的特殊化合物（聚合物狀物質）並摻上磨料（liào）製成（chéng），磨料可采用碳化矽粉末。

6.磁研磨拋光

磁研磨拋光，是利用磁性磨料在磁場作用下（xià）形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質量好，加工條件容易控製（zhì），工作條件好。采用合適的磨料，表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。